那边张如京沉默了一会儿，然后说到，“对的，曹总，我要说的就是这件事情，清大的唐川力教授团队已经研发出一种稳定的极紫外光光源了，你想不想来一起看看？”
“哈？！”
曹阳愣了两秒钟，整个人开心得合不拢嘴，显得异常的惊讶。
“真的假的？”
妈耶！
前世都没有做到的事情，没有想到这一世居然能做到了？！
可千万别是什么冒充骗钱的呀！
……
极紫外光光源这个东西，说起来是EUV开发的三大难题之一。
有人这样形容光刻机：“这是一种集合了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别领域顶尖技术的产物。”
我们可以把光刻机看作一台高精度的底片曝光洗印机，它负责把“底片”，也就是设计好的芯片电路图曝光到“相片纸”上。这个“底片”有一个专业名称，叫做“掩膜”。而这里的“相片纸”，就是制造芯片的基底材料硅晶圆；曝光完成后得到的最终“照片”，就是芯片。
光刻机的基本结构最关键的部件只有三个：光源发射器、用来调整光路和聚焦的光学镜头，以及放置硅晶圆的曝光台。
正是因为光刻机的工作原理和基本结构并不复杂，所以，在芯片行业发展的早期，并没有专门的光刻机生产商。
芯片公司只需要到照相器材商店购买普通的相片洗印设备，然后自己加工改造一下就可以了。后来随着需求的不断提升，到现在智能手机的出现，对芯片提出了越来越高的要求。
经过这么多年的发展，博米公司虽然拥有着世界最高水准的芯片设计能力，可仍然缺乏芯片制造技术。
或者说，这一切的源头都卡在光刻机这里。
这就要说到芯片行业着名的“摩尔定律”。摩尔定律是指，每隔两年，同样大小的一块芯片上，晶体管数量会增加一倍。
换句话说，芯片的性能也增加一倍。但摩尔定律并不是客观的自然规律，而是芯片行业在激烈竞争中形成的经验规律：一旦芯片公司的研发速度落后于这个节奏，就将被无情淘汰。摩尔定律自从1965年提出后，统治了芯片行业长达半个世纪。
半个世纪以来，芯片上的晶体管数量一直在呈指数级增长。如果还把芯片比喻为“照片”的话，那么，这个照片的像素是呈指数级增长的。相应地，用来曝光洗印“照片”的光刻机的精度，也必须越来越高，否则，你设计的“照片”再精美，印不出来也没有用。
比如，未来博米的智能手机需要用到低于10nm级别的芯片，生产这样的芯片，要用到的最先进的极紫外光刻机。
它的精度要达到什么样的程度呢？首先，如果把光想象成一把刻刀的话，那么光波越短，这把刻刀就越锋利。
1纳米等于百万分之一毫米，7纳米芯片意味着，它的每个元器件之间，只允许有几纳米的间隔距离，相当于一根头发丝粗细的万分之一。
要曝光这样的芯片，必须采用一种特殊的光源，也就是极紫外光，它的波长只有13.5纳米，是可见光波长的几十分之一。
但是，极紫外光源很难制造。
直到今年年初，阿斯麦才研制出了第一台极紫外光刻机。
不过这个进程已经比曹阳前世的要提前太多了。
光刻机的第二个技术难点，是用来调整光路和聚焦的光学镜头。高度精密的光学镜头是光刻机的核心部件之一，所以，排在阿斯麦之后的另外两家光刻机生产商，尼康和佳能，都是生产光学镜头的佼佼者。
阿斯麦自己不生产镜头，它的镜头来自德国的光学大师卡尔蔡司。这种镜头有多精密呢？如果把镜头放大到一个地球那么大，它上面只允许有一根头发丝那样的凸起。所以有人说，这可能是宇宙中最光滑的人造物体。
国内吃亏就吃亏在没有完整的产业链，尤其是光学元件所需要的产业链上面，摄像头，照相机基本上都是来自于国外公司生产，很少能将光学元件打磨到那么精细。
所以这一块还有很长的路要走。
最后一个难点就在于【精准】
芯片不是一次曝光就可以完成的，而是必须更换不同的掩膜，进行多次曝光。
芯片的每个元器件之间只允许有几纳米的间隔。这就意味着，掩膜和硅晶圆每次对准的误差，也必须控制在纳米级别。
曝光完一个区域之后，放置硅晶圆的曝光台必须快速移动，接着曝光下一个区域。
要在快速移动中实现纳米级的对准，这个难度就相当于，你要从眨眼之间，端着一盘菜从BJ天安门冲到上海外滩，恰好踩到预定的脚印上，菜还保持端平不能洒。
当然，这还有一系列外围的技术难题，比如，室外空气干净1万倍的超洁净厂房，防止机器抖动的磁悬浮装置，以及配套的计算光刻软件等等。
这就是为什么光刻机被称为“半导体工业皇冠上的明珠”的原因了。
制造一台极紫外光刻机，就是在挑战人类工业文明的极限。
……
在听到清大唐教授团队居然能研发出稳定的极紫外光源的时候，曹阳是肉眼可见的兴奋。
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